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诚信经营质量保障价格合理服务完善全金属密封磁控溅射靶枪是一种用于磁控溅射技术的设备,主要由金属制成的密封容器和靶材组成。这种设备广泛应用于各种薄膜制备工艺中,如光学薄膜、电子薄膜、磁性薄膜等。
超高真空磁控溅射外延系统是一种先进的薄膜制备设备,结合了超高真空技术和磁控溅射技术,用于在衬底上外延生长高质量的薄膜材料。
FPD-PVD磁控濺鍍設備針對中小尺寸的需求開發串集的PVD 設備,擁有4個單獨的濺鍍腔體,讓客戶能任意搭配沉積的材料,同時保有彈性和具有選擇性的系統。
連續式多腔磁控濺鍍設備:In-Line的濺鍍沉積是指基板在一個或多個濺鍍陰極下方以線性的方式通過以獲取其薄膜沉積。其基板沿著軌道穿過各個真空腔內。