全金属密封磁控溅射靶枪是一种用于磁控溅射技术的设备，主要由金属制成的密封容器和靶材组成。这种设备广泛应用于各种薄膜制备工艺中，如光学薄膜、电子薄膜、磁性薄膜等。

超高真空磁控溅射外延系统是一种先进的薄膜制备设备，结合了超高真空技术和磁控溅射技术，用于在衬底上外延生长高质量的薄膜材料。

有機材料熱蒸鍍設備：該過程需要通過精確控制溫度和沉積速率來實現薄膜的高精度和均勻性。

金屬熱蒸鍍設備：熱蒸發是物理氣相沉積（PVD）中常用方法，也是PVD簡單的形式之一。使用電加熱的蒸發源可用於沉積大多數的有機和無機薄膜，其中以電阻式加熱法最為常見的。

熱蒸鍍設備是用於沉積材料中簡單的物理氣相沉積（PVD）。將材料（金屬或者有機材料等）置於真空環境中的電阻熱源中，使其加熱並蒸發，以最直接的方式蒸發到基板上，然後在基板上凝結成固態形成薄膜。

FPD-PVD磁控濺鍍設備針對中小尺寸的需求開發串集的PVD 設備，擁有4個單獨的濺鍍腔體，讓客戶能任意搭配沉積的材料，同時保有彈性和具有選擇性的系統。

連續式多腔磁控濺鍍設備：In-Line的濺鍍沉積是指基板在一個或多個濺鍍陰極下方以線性的方式通過以獲取其薄膜沉積。其基板沿著軌道穿過各個真空腔內。

超高真空磁控濺鍍設備超高真空環境的特徵為其真空壓力低於10-8至10-12 Torr，且在化學、物理和工程領域十分常見。