第五届世界生殖生物学大会的公告于北京时间2023年9月13日开展，大会由中国生殖生物学学会(CSRB)主办，旨在汇集主要的学术科学家、研究人员和研究学者，交流和分享他们对生殖生物学各个方面的兴趣、经验和研究成果。大会将为所有与会者提供全体讲座、跨学科研讨会、口头和海报会议，以介绍和讨论生殖生物学领域的最新趋势和关切。我们希望在大会上延续WCRB的优秀传统，进一步发扬其价值观。WCRB2023将与7个国际学会合作举办:生殖研究学会(SSR，美国)、生殖生物学学会(SRB，澳大利...

原子层沉积是一种薄膜制备技术，它通过在衬底表面逐层沉积单原子或分子层来构建所需的薄膜结构。下面是一种使用原子层沉积的基本方法：1.准备衬底：首先准备一个干净、平整的衬底。确保表面没有杂质和污染物，以保证薄膜的质量。2.清洗衬底：使用适当的清洗方法(如超声波清洗、化学溶液清洗等)将衬底清洗干净，去除表面的氧化物、脏物和杂质。3.前处理：根据需要，可以在衬底表面进行一些前处理步骤，如表面活化、化学修饰等，以便增强薄膜的附着性和特定性能。4.ALD沉积：将预先选择好的沉积原料分子(...

化学气相沉积系统是一种常用的材料生长技术，广泛应用于制备薄膜、纳米颗粒和纳米线等材料。下面是关于化学气相沉积系统的使用方法的文章，希望能对您有所帮助。化学气相沉积系统的使用方法化学气相沉积系统(CVD)是一种将气相反应物转化成固态产物的方法。该系统需要以下关键组件：反应室、进气系统、底部加热炉、载气系统、真空系统和废气处理系统。首先，要确保系统处于干净和安全的状态。清洁各个组件，确保无尘、无杂质以及无明显磨损。接下来，将待沉积的材料片或基底放置在反应室中的样品架上。注意，材料...

深硅刻蚀是一种重要的微电子制造技术，广泛应用于半导体材料加工中。它通过控制化学反应来刻蚀硅材料，从而实现对硅片的精确加工和微细结构的制作。深硅刻蚀的使用方法通常包括以下几个步骤：1.贴装：将待加工的硅片粘贴到专用工艺底座或支架上。这样做可以保持硅片的平整度，同时确保整个加工过程的稳定性。2.清洗：将硅片放入去离子水中进行清洗，去除表面的杂质和污染物。清洗的目的是为了确保后续刻蚀过程的纯净度，以获得最佳的刻蚀效果。3.驻留：在清洗完毕后，将硅片放入驻留槽中，让硅片与刻蚀液接触一...

刻蚀系统是一种重要的制程设备，广泛应用于半导体、光学、微电子等领域。它被用来精确地去除材料表面的一层或多层，以实现微细结构的制造。本文将介绍刻蚀系统的使用方法，以帮助读者更好地理解和运用该设备。首先，使用者需要准备好待刻蚀的样品。样品应具备所需的几何形状和所要刻蚀的材料。样品的表面应清洁无尘，以免污染系统。此外，需要根据刻蚀目标来选择合适的刻蚀气体和刻蚀液。接下来，使用者需要将样品放置到系统的样品架上或夹具中。根据刻蚀目标的需求，可以调整样品的位置、方向和角度。确保样品固定牢...

反应离子刻蚀机(RIE)是一种常用的微纳加工设备，用于制备和处理微纳米材料。下面将介绍RIE的使用方法。首先，操作人员需要全面了解RIE设备的基本结构和工作原理。RIE由高频发生器、真空系统、气体输送系统、电极和样品夹持系统等组成。工作时，样品被夹在电极间，由高频电压产生的离子束以特定的反应气体在辐射电场中与样品表面发生化学反应，实现刻蚀或沉积的目的。在使用RIE前，操作人员需要准备好实验样品。样品的制备应遵循相应的制备方法和标准，以确保实验结果的准确性和一致性。接下来，操作...

反应离子刻蚀机是一种常用于制备微纳米器件的先进设备。它能够通过对材料表面的离子轰击和化学反应，实现对材料的精确刻蚀和加工。下面是使用反应离子刻蚀机的基本步骤：1.准备工作：在使用反应离子刻蚀机之前，需要准备好待加工的样品和相应的掩模。样品应该被清洗，确保表面没有杂质和残留物。掩模则是用来保护部分区域不受刻蚀影响的薄膜。此外，还要检查设备是否正常运行，液氮和工艺气体的供应是否充足。2.装载样品：将样品放置在刻蚀室的样品台上，并确保样品与台面之间的接触良好。同时，确保样品可以被稳...

协助科研项目发展，共建环保高科技实验室！北京瑞科中仪科技有限公司专注实验室设备整体解决方案，2023年5月18日，我单位与清华大学课题组老师共同探讨新型实验室设备技术问题，并达成深度合作。2023年5月18日上午9时许，清华大学的三位老师在我单位进行考察，对我们常规的一些实验室设备进行参观，我单位专业技术工程师全程陪伴，并为老师进行详细讲解。对展示样品参观后，高级实验室方案定制工程师与三位老师在第二会议室进行详细的技术交流，对清华大学三位老师的科研项目出谋划策，交谈甚欢。本次...