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  • 沉积系统
    沉积系统

    三到六个端口传送腔室可用于集成ICP等离子刻蚀机、RIE刻蚀机、原子层沉积系统、PECVD和ICPECVD沉积设备,以满足研发的要求。样品可以通过预真空室和/或真空片盒站加载。

    更新时间:2024-07-10型号:访问量:688
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  • SENTECH二维材料刻蚀
    SENTECH二维材料刻蚀

    SENTECH二维材料刻蚀能够在低温100°C下高均匀度和高保形性地覆盖敏感衬底和膜层,在样品表面提供高通量的反应性气体,而不受紫外线辐射或离子轰击。

    更新时间:2024-07-10型号:访问量:819
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  • SENTECH原子层沉积设备
    SENTECH原子层沉积设备

    原子层沉积设备:真远程等离子体源能够在低温100°C下高均匀度和高保形性地覆盖敏感衬底和膜层,在样品表面提供高通量的反应性气体,而不受紫外线辐射或离子轰击。

    更新时间:2024-07-10型号:SENTECH访问量:919
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