激光 分子束外延系统是一种用于物理学、材料科学领域的工艺试验仪器，综合了脉冲激光沉积和分子束外延的特点和优势。它能在高真空、真空条件下实现原位实时监控薄膜原子尺度层状外延生长。这一系统适用于多种有机、无机薄膜的制备，尤其适宜于用其它制膜设备和方法难以制备的高熔点、多元素（特别是含有气体元素时）、复杂层状结构的薄膜和超晶格的制备。

剥离成形电子束设备：对于有些金属，我们很难使用蚀刻(Etching)方式来完成想要的电路图案(Circuit Pattern)时，就可以采用 Lift-Off制程来做出想要的金属图案。在此过程中，电子束蒸发于在基板表面上沉积所需的薄膜层于牺牲层于基材上，最终在洗去其牺牲层，以得到其电路图案。

超高真空电子束蒸镀设备的特征为其真空压力低于10-8至10-12 Torr，在化学物理和工程领域十分常见。超高真空环境对于科学研究非常重要，因为实验通常要求，在整个实验过程中，表面应保持无污染状态和使用较低能量的电子和离子的实验技术的使用，而不會受到气相散射的过度干扰。

电子束蒸镀设备是一种实用且高度可靠的系统。我们的系统可针对量产使用单一坩埚也可以有多个坩埚來達到產品多層膜結構。在基板乘載上我們對應半導體研究和大型設備設計。單片和多片公自轉的設計可以控制蒸發速率，薄膜厚度和均勻度小於+/- 3％。

電子束蒸鍍為一種物理氣相沉積（PVD）技術，其中電子束是由鎢絲所產生的，並受到電場和磁場的驅動而朝向蒸發材料，並將其材料由固態轉化為氣態以沉積在基板表面上。且該過程需在高真空環境中，以通過自由路徑的方式在基板表面上形成薄膜。

多層膜磁控濺鍍設備廣泛用於各個領域，而對於精密系統則需要更嚴格的規格，包括光、聲音和電子元件。在單一材料薄膜無法滿足所需規格的精密系統中，高質量多層膜的作用變得越來越重要。因此，新材料的開發和薄膜的精確控制製程已成為當前多層薄膜研究的重要方向。

Thermo Scientifc Helios 5 DualBeam凭借其先进的聚焦离子束和电子束性能、专有软件、自动化和易用性特征，重新定义了样品制备和三维表征的标准。

具有分辨率的直接激光刻录机 PICOMASTER 是一系列直接激光刻录机，可使用单个激光束创建高分辨率结构。这款多功能、低维护的激光刻录机可为特征和光栅周期提供分辨率。用户友好的 PICOMASTER 系列为您的激光光刻挑战提供了解决方案。