激光光刻系统PICOMASTER 是一系列直接激光刻录机，可使用单个激光束创建高分辨率结构。这款多功能、低维护的激光刻录机可为特征和光栅周期提供分辨率。用户友好的 PICOMASTER 系列为您的激光光刻挑战提供了解决方案。

大面积 SEM 成像 通过 CAD 形状提取在大面积和 3D 中拼接 3D SEM 图像马赛克

聚焦离子束扫描电镜系统用于以 FIB 为中心的纳米加工的 FIB-SEM VELION 是一种用于纳米科学与工程的新型 FIB-SEM 仪器概念。FIB 纳米加工已成为制造三维和高分辨率纳米结构（例如等离子体装置、纳米流体、局部注入和功能化）的标准技术

专用电子束光刻系统这些创新、智能配置的电子束光刻系统可以轻松有效地实现纳米加工。所有 Raith EBL 系统都配备了高精度激光干涉仪平台和图案发生器，可为您的工作提供Z高的精度和速度。其他功能（例如traxx 和 periodixx、无拼接错误曝光模式以及Nanosuite（直观且全面的纳米光刻软件） ）使 Raith 的系统有别于其他纳米光刻设备。联系我们讨论哪种系统适合您的需求。

德国电子束曝光主要功能：曝光速度快精度高，可采用大写场大束流进行曝光，适用于科研及小批量生产中使用；自动化程度高，除了放样取样外，整个曝光过程只需要编辑曝光的相关参数，其他过程均可自动完成。

国产电子束光刻主要功能：曝光速度快精度高，可采用大写场大束流进行曝光，适用于科研及小批量生产中使用；自动化程度高，除了放样取样外，整个曝光过程只需要编辑曝光的相关参数，其他过程均可自动完成